①人工定期清洗。在工業(yè)行業(yè)的較多應(yīng)用中，一般根據(jù)工藝介質(zhì)的工況進(jìn)行定期清洗就可維持pH值的正常測(cè)量，如工藝循環(huán)冷卻水的pH值測(cè)量，對(duì)于懸浮物、黏性物質(zhì)和微生物污染，可用帶壓的水沖洗干凈，再用蒸餾水清洗，不能用紙巾用力擦洗，否則會(huì)產(chǎn)生靜電，影響pH電極的校驗(yàn)和測(cè)量。對(duì)于無機(jī)鹽類的污染，可用0.1mol/L的稀鹽酸或稀堿進(jìn)行浸泡處理。如pH電極在污水處理中應(yīng)用，就需要提高定期清洗的頻次，以保證正常測(cè)量。清洗處理的兩個(gè)重要部位是電極的液接陶瓷隔膜和敏感膜部分。
       ②電極的自動(dòng)清洗。在有些困難的測(cè)量場(chǎng)合，盡管在選型時(shí)已經(jīng)選用了耐污染的pH電極，但電極浸入被測(cè)量介質(zhì)中正常測(cè)量堅(jiān)持不到1h甚至0.5 h，.就必須重新對(duì)電極進(jìn)行清洗才能重新進(jìn)正常測(cè)量，如此頻繁的電極清洗通過人工來完成顯然是不合適的。還有一些 工藝是有毒有害的環(huán)境，盡管清洗頻次的時(shí)間上人工可以保證，但從操作人員的安全考慮也應(yīng)該選擇電極自動(dòng)清洗裝置。
      自動(dòng)清洗的方法主要有超聲波清洗、介質(zhì)中氣體沖洗、介質(zhì)中水沖洗、與介質(zhì)隔離的水沖洗和與介質(zhì)隔離的溶液沖洗等方法。超聲波清洗利用超聲波的沖擊能量來剝落玻璃敏感膜上的附著物(圖2-14)，對(duì)一般的污染有較好的清洗效果。介質(zhì)中氣體沖洗或介質(zhì)中水沖洗常用于敞開池污水處理場(chǎng)合，利用工廠的壓縮空氣或帶壓的水定期對(duì)電極頭進(jìn)行沖洗，防止 懸浮物黏附、包裹，堵寨電極敏感膜及隔膜，可較大地減輕電極的人工維護(hù)工作量。
                            
       在一些工況較嚴(yán)格的管道或反應(yīng)釜中測(cè)量pH值，不允許在被測(cè)量介質(zhì)中直接噴氣或水進(jìn)行電極的自動(dòng)清洗，那就需要把電極從反應(yīng)釜中縮回，電極前端和介質(zhì)隔離密封，于是就可在電極安裝件內(nèi)進(jìn)行電極的氣/水/專用清洗液等進(jìn)行自動(dòng)清洗，在完成清洗周期后，電極重新自動(dòng)伸入反應(yīng)釜中進(jìn)行正常的PH值測(cè)量，清洗周期可根據(jù)工藝要求設(shè)定， 如1h, 0. 5h或15min等清洗一次。有些自動(dòng)清洗裝置還附帶自動(dòng)校驗(yàn)功能。