傳統(tǒng)的半導體
超純水設備采用電滲析和離子交換器,而最新的半導體
超純水設備則是將
離子交換器和電滲析兩者相結合的一種新型除鹽技術,可以除掉水中的陰陽離子,出水電阻率在15MΩ
.CM以上。
那么,半導體
超純水設備的工藝,你了解嗎﹖下面為大家介紹一下半導體超純水設備的工藝。
1、采用離子交換方式(離子交換工藝參數(shù)),其流程如下:原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點。
2、采用兩級反滲透方式,其流程如下:原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→第一級反滲透→PH調節(jié)→中間水箱→第二級
反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點。
3、采用EDI方式,其流程如下:原水→原水加壓泵→多介質過濾器→
活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→
EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點。
以上就是關于半導體超純水設備的工藝流程介紹,有不明白的歡迎咨詢客服人員,我們將竭誠為您服務。